ASML Renforce sa Position Dominante dans le Secteur de la Photolithographie
ASML, le leader mondial des machines de photolithographie, continue de consolider sa position sur le marché, notamment grâce à ses équipements de lithographie par rayonnement ultraviolet extrême (EUV). Les récentes discussions avec des clients ont mis en lumière une demande croissante pour ces machines, bien que leur coût atteigne environ 200 millions de dollars chacune.
Les nouvelles machines de prochaine génération, appelées High NA, affichent un prix d’environ 400 millions d’euros l’unité et commencent à être adoptées par des géants de l’industrie tels qu’Intel. Ce dernier a confirmé que ces équipements respectent les normes de débit et de fiabilité requises pour la production. De plus, SK Hynix, Samsung et TSMC ont déjà prévu une date de mise en service de ces machines, qui peuvent imprimer des structures et des transistors 40 % plus petits que ceux réalisés avec les machines EUV standard.
Depuis la fin des années 2010, ASML est le seul fabricant de machines EUV sur le marché, tandis que ses concurrents, tels que Nikon et Canon, ainsi que de nouveaux acteurs chinois, n’ont pas encore réussi à développer des machines équivalentes, se limitant pour l’instant aux technologies de lithographie par rayonnement ultraviolet profond (DUV).
Cette situation renforce le monopole d’ASML dans le secteur, alors que la demande pour des technologies de pointe en matière de semi-conducteurs continue d’augmenter.
Source : Reuters.
